合作開發
豐富的薄膜工藝開發經驗,ALD薄膜應用開發經驗,以及完備的薄膜檢測手段
ALD薄膜沉積
可代加工沉積包含但不限于:HfO2,ZrO2,Ta2O5,Nb2O5,Al2O3,TiO2,SiO2,TiN,TaN,Co,Cu,Ni等等,工藝包含熱型,CCP等離子,ICP等離子工藝
真空設備及零配件
產品包含各類成品真空設備,定制化成套真空設備,真空相關零配件等
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